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2011年半导体产业资本支出创最高纪录
[发布时间]:2011年9月13日 [来源]:电子设计技术 [点击率]:1948
【导读】: 2011年半导体产业资本支出创最高纪录根据国际半导体设备材料产业协会(SEMI)的报告显示,全球半导体产业的资本支出将在2011年增加到411亿美元的最高纪录SEMI并预期整体半导体产能也将放缓。...

2011年半导体产业资本支出创最高纪录

根据国际半导体设备材料产业协会(SEMI)的报告显示,全球半导体产业的资本支出将在2011年增加到411亿美元的最高纪录;SEMI并预期整体半导体产能也将放缓。

  SEMI预计2011年将有223座厂房新增设备投资,其中有77项是专门针对LED设备投资的计划。明年,预计还将有190座厂房将展开或继续装机,其中有72项是LED设备相关投资计划。

  2011年设备支出最高的地区是美国,约占100亿美元;其次是台湾,约有90亿美元的投资。美洲地区在2002年时也曾位居设备投资支出之冠。

  尽管英特尔(Intel)公司的设备投资支出最高,但美国成为设备支出之冠的另一项关键因素在于三星公司(Samsung)于美国德州打造一座造价25~30亿美元的“S2产线”。根据SEMI的全球晶圆厂预测(World Fab Forecast)报告,韩国将在2012年时超越美国,以超过100亿美元晶圆厂设备支出的投资位居榜首,其次是台湾约92亿美元的设备支出。

  “近几个月来的经济发展,使得消费者信心指数与支出下降,连带半导体产业也受这一低迷景气拖累。”SEMI产业研究与统计部门的晶圆厂信息资深分析师Christian Gregor DieseldoRFf在一份报告中表示。

  展望未来,业界可能无法抵挡快速增加的需求,例如在NAND闪存市场。SEMI表示,让一座晶圆厂从破土动工到实现量产约需要一年半的时间,那么,为了要在2012年或2013年看到产能的增加,建造新厂的计划必须从现在开始!

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