2.2.2 Fe-Al-O纳米晶颗粒膜的磁性能

采用Fe-Al2O3的复合靶、溅射气体用Ar 气，气压为4mTorr，溅射后所得到的样品在8×10-6Torr的真空状态中施加600(Oe)的直流磁场，并分别在300℃ 、380℃ 、400℃、的温度下热处理1小时，溅射膜经过不同温度热处理后的饱和磁化强度及矫顽力随电阻率ρ的变化如图3、图4所示。由图可见，颗粒膜成分基本相同，但其电阻率ρ、饱和磁化强度Bs、矫顽力Hc却非常分散，而这种分散的状况可通过热处理得到抑制。在一个合适的热处理温度调整后，饱和磁化强度稍有增加，电阻率ρ可被控制在1000μΩ-cm左右，矫顽力Hc在380℃热处理中，降低到了1(Oe)以下，显示出良好的软磁特性。

经过300℃温度热处理的Fe-Al-O纳米晶颗粒膜的磁导率频率特性如图5所示。图中μ′在高频时急剧下降，而μ′则从较低频率开始呈现很大的数值。这种现象与理论计算有较大距离。

从以上分析可见，在现有Fe基、Co基两大系列纳米晶磁性颗粒膜中，Co基颗粒膜的磁性能更优良一些。通过调整靶的成分和制备工艺参数，获得的磁膜性能为：Bs达到10KGS 以上，电阻率ρ为1000μΩ-cm左右，各向异性场在20～40(Oe)之间，矫顽力Hc小于1(Oe) ，磁导率μ在1GHz频率时大于100。