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半导体资本支出2012年减16.7%
[发布时间]:2011年10月8日 [来源]:led节能灯 [点击率]:2244
【导读】: 报告中还同时指出,2012年中过后需求才会见到止跌回升,下一波成长预期会出现在2013年,届时资本支出将增加18.4%2014年才会再度改写新高纪录。 由于全球半导体厂均出现产能过剩压力,Gart...

报告中还同时指出,2012年中过后需求才会见到止跌回升,下一波成长预期会出现在2013年,届时资本支出将增加18.4%,2014年才会再度改写新高纪录。

由于全球半导体厂均出现产能过剩压力,Gartner副总裁 Klaus Rinnen表示,半导体资本支出及设备支出的成长似乎是全面减速,晶圆代工厂持续进行28纳米产能竞赛的同时,对45纳米至90纳米技术的支出却呈减缓趋势,且前几个制程世代的部份设备,仍可使用于28纳米生产以增加产能利用率。此外,由于平板媒体(media tablet)产量的成长较预期为弱,NAND快闪存储器厂的投资亦见疲软。

Gartner预期此一支出减缓的趋势,将由2011年延续到2012年上半年,至明年年中时,随着PC市场回温和消费者因经济趋稳而恢复消费,供需将趋于平衡,DRAM和晶圆代工等产业将因而开始增加支出以因应需求的成长。 根据Gartner预估,2012年半导体资本支出总额将达515.339亿美元,年减16.7%,2013年将成长18.4%至610.264亿美元,2014年才会达到625.132亿美元再创新高。

Gartner预期,今年半导体业设备支出均达435.2亿美元,较去年增加7.1%,但2012年将下滑19.2%至351.685亿美元,2013年因先进制程需求转强,会成长21.6%至427.726亿美元,但要等到2014年才会再创历史新高。

在晶圆设备部份,由于今年第2季接单情况已不如预期强劲,且在芯片销售减缓和、超额库存去化等双重压力下,2011年下半年将加速下滑。Gartner预估,今年全球晶圆设备支出将较去年成长9.4%,但明年将衰退19.6%,而先进制程设备如浸润式微影、蚀刻、双重曝光等将持续成长,主要是受惠于半导体厂加速转进28纳米及20纳米,至于类比和离散元件、电源管理等芯片需求庞大,亦会带动8寸晶圆设备支出。

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