2纳米晶颗粒磁膜的制备和磁膜特性分析

2.1磁膜的制备

磁膜的制备采用溅射法，纳米晶颗粒膜的溅射为单靶。靶成分一般分为Co基和Fe基作为磁性相，氧化物则多以SiO2、Al2O3等构成，溅射条件在不同单位各不相同，见表1所示，它们是纳米晶颗粒膜典型的制备方法。

2.1.1溅射靶

从表1可见，溅射纳米晶颗粒膜的磁性相都是由Fe基、Co基铁磁材料构成的，而非磁性相则以Al2O3 、SiO2等为主要材料。表1中方案的制作者强调，在Co基的CO75Al25合金靶中，掺入微量Fe元素构成的(Co0.94Fe0.0675Al25)合金靶，有助于减小磁致伸缩系数。表1所示方案中，靶的成分各不相同，但在基片上获得所希望的材料成分结构的影响因素，是各种溅射条件的优化组合，特别是磁性相和非磁性相元素含量的比例；同时，除了与附着在合金靶上的Al2O3 、SiO2等的数量、形状密切相关外，还与靶上各部分的功率密度有关。