国家集成电路（无锡）设计中心奠基
[发布时间]：2009年9月16日
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【导读】： 5月31日上午，国家集成电路（无锡）设计中心举行奠基仪式。由此，中国最具实力的IC设计产业集聚高地将在这里拔地而起。国家集成电路（无锡）设计中心位于无锡（国家...
5月31日上午，国家集成电路（无锡）设计中心举行奠基仪式。由此，中国最具实力的IC设计产业集聚高地将在这里拔地而起。
国家集成电路（无锡）设计中心位于无锡（国家）工业设计园、江苏省无锡蠡园经济开发区，是由中国电子科技集团公司与滨湖区共同打造的以集成电路设计为主题的高科技设计研发及制造中心，致力引进国内外规模型、品牌型、领军型、创新型IC设计公司。其中由中国电子科技集团公司及其旗下8个研究所整合资源，投资3亿元成立的中科芯集成电路股份有限公司，已于今年3月30日先期开业。
国家集成电路（无锡）设计中心用地301亩，建筑面积42.3万平方米，总投资20亿元，由10组多层楼宇和6幢高层楼宇组成，划分为研发办公区、公共服务区、景观绿化带和商业休闲带四大功能区，构建包括测试服务、技术培训、封装服务等16项功能在内的公共服务平台，在通信、安全、管理、服务四个系统建设上将达到国内一流水平。
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